一、纳米流式如何作图?
测试完后,找到一个窗口,上面有各个粒径范围粒子的分布统计表,下面有红色的柱状图然后在菜单中的编辑选项中导出“table”(还可以导出graph,那是图片),会生成excel文件里边就是数据
二、什么是流式技术?
就是把连续的影像和声音信息经过压缩处理后放上网站服务器,让用户一边下载一边观看、收听,而不要等整个压缩文件下载到自己的计算机上才可以观看的网络传输技术。
该技术先在使用者端的计算机上创建一个缓冲区,在播放前预先下一段数据作为缓冲,在网路实际连线速度小于播放所耗的速度时,播放程序就会取用一小段缓冲区内的数据,这样可以避免播放的中断,也使得播放品质得以保证。
三、什么是流式荧光技术?
FISH,荧光原味杂交,应用荧光标记的DNA探针检测细胞中的特定基因是否表达、表达的量、是否异常、表达位置等信息,使用仪器是荧光显微镜;
融合基因,会提取检测细胞cDNA,应用已知融合基因引物kit,在RT-PCR仪检测进行扩增,如果存在融合基因,则可扩增出相应的产物,根据产物的荧光强度,还能检测出融合基因含量;
流式细胞术,使细胞形成单细胞悬液,应用荧光标记的抗体分子标记细胞,根据荧光分子表达情况检测细胞表面目的抗原。
关系:都应用荧光技术进行检测,
区别:检测的目的、方法、仪器均不同(顺带说一句,FISH和流式可以合作检测端粒酶,这种技术叫“FISH-Flow”因为是用流式仪检测的)
四、流式荧光免疫技术原理?
将荧光标记后的单细胞(或颗粒)悬液进入吸样管,进而随鞘液进入流动室。
进入流动室之前的管道变细,迫使鞘液从四周、样本在中心进入流动室,在外加压力的作用下由下向上(或由上向下)直线流动。
鞘液充满流动室将样品裹挟,当二者通过流动室喷嘴流出时,压力迫使鞘液包裹的液滴包含单一细胞或颗粒垂直通过检测区。
五、流式荧光技术怎么样?
紫色激光器荧光染料 405 nm 激发。适用于丰度较高的抗原。
绿色和黄绿色激光器的荧光染料 532 561 nm 激发。用于配有合适的滤光片通道的流式细胞仪光耐受强并且不依赖于PH值,是荧光显微镜技术的最佳选择
蓝光激光器荧光染料 488 nm 激发。适用于荧光显微镜技术。
红光激光器荧光染料 633 nm 激发。适用于配备氦氖激光器或红色二极管激光器的流式细胞仪。
六、流式细胞技术检测目的?
流式细胞术工作原理是在细胞分子水平上通过单克隆抗体对单个细胞或其他生物粒子进行多参数、快速的定量分析。它可以高速分析上万个细胞,并能同时从一个细胞中测得多个参数,具有速度快、精度高、准确性好的优点,是当代最先进的细胞定量分析技术之一。
光源、液流通路、信号检测传输和数据的分析系统是流式细胞仪的主要组成。临床中运用流式细胞仪进行外周血白细胞、骨髓细胞以及肿瘤细胞等的检测是临床检测的重要组成部分。
七、纳米光刻技术?
1995年,华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授首次提出纳米压印概念,从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一,很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。
目前,纳米压印技术在国际半导体蓝图(ITRS)中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域,短短25年,已经取得很大进展。
八、纳米复原技术?
以下是我的回答,纳米复原技术是一种应用纳米技术修复和还原物质原有性能的技术。它利用纳米级的材料和工艺,对受损或老化的物质进行修复、强化和还原,使其性能得到恢复或改善。这种技术的应用范围非常广泛,可以应用于各种领域,如文物修复、汽车维修、电子产品修复等。通过纳米复原技术,我们可以将受损的文物、汽车、电子产品等进行精细的修复和还原,延长其使用寿命,减少废弃物的产生,具有非常重要的作用和意义。
九、纳米压印技术?
这个纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术,它通过光刻胶辅助,将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。这种技术最初由美国普林斯顿大学的Stephen. Y. Chou教授在20世纪90年代中期发明。
纳米压印技术主要包含三个步骤:
模板的加工:一般使用电子束刻蚀等手段,在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。
图样的转移:在待加工的材料表面涂上光刻胶,然后将模板压在其表面,采用加压的方式使图案转移到光刻胶上。注意光刻胶不能被全部去除,防止模板与材料直接接触,损坏模板。
衬底的加工:用紫外光使光刻胶固化,移开模板后,用刻蚀液将上一步未完全去除的光刻胶刻蚀掉,露出待加工材料表面,然后使用化学刻蚀的方法进行加工,完成后去除全部光刻胶,最终得到高精度加工的材料。
纳米压印技术具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点,被认为是一种有望代替现有光刻技术的加工手段。
纳米压印技术已经有了许多方面的进展。例如,佳能最新的纳米压印(NIL)套刻精度为2.4nm/3.2nm,研发中NIL已经可以处理高达5nm的电路线宽,每小时可曝光超过100片晶圆,每个晶圆的功耗仅为使用EUV光刻的十分之一左右。据悉,纳米压印(NIL)已经达到3D NAND的要求,铠侠(Kioxia,原东芝存储部门)已经开始使用此设备。
纳米压印技术的应用范围非常广泛,包括集成电路、存储、光学、生命科学、能源、环保、国防等领域。
总的来说,纳米压印技术是一种具有巨大潜力的微纳加工技术,它的出现有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。
十、纳米碳化技术?
碳化技术是指利用Ca(OH)2与CO2碳化反应得到CaCO3,由煅烧、消化、碳化、过滤、干燥等工序组成,是生产纳米碳酸钙的主流工艺,这中间既有加热过程,又有冷却过程,因此,为降低能耗,提高效益,生产过程中余热利用与节能增效措施备受企业关注。