光刻机28纳米是什么时候实现的？

        根据我了解，光刻机28纳米的实现时间是在2011年左右。当时，主要的半导体制造厂商已经成功使用光刻技术在制造芯片时达到了28纳米的精度。

这一技术突破使得半导体芯片能够更加紧密地集成更多的晶体管和电路，从而提高了芯片的性能和效能。不过，需要注意的是，这一数字是指制程技术达到的纳米级别，实际上芯片的特征尺寸可能会略大于这个数值。