纳米压印光刻原理？

纳米压印光刻是一种将纳米级结构压印到表面的技术。在这个过程中，首先需要将一个光刻模板对准待加工的表面，然后使用高压将模板上的图案压印到表面上，以形成纳米级图案。

在此过程中，使用的光源可以是紫外线或电子束，通过模板上的图案来控制光的传播和反射，从而在表面上形成所需的结构。

这种技术非常适用于微电子、纳米器件和光电子学等领域，可以制备出极高精度、高重复性的纳米级结构。